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激光粒度分布儀是一種基于光散射原理的高精度顆粒分析儀器，通過測量顆粒對激光的散射特性，反推顆粒的粒徑分布，廣泛應用于材料科學、制藥、化工、環境監測、食品加工等領域。其核心優勢在于非接觸式測量、寬檢測范圍（0.01μm-3000μm）、快速分析（數秒至數分鐘）及高重復性，是顆粒表征的關鍵工具。激光粒度分布儀的工作原理基于米氏散射理論（MieTheory）和夫瑯禾費衍射理論（FraunhoferDiffraction）。當激光束照射樣品時，顆粒會散射光線，散射光的角度和強度與顆粒...

粉末衍射儀是一種基于X射線衍射原理的高精度分析儀器，主要用于晶體物質的定性與定量分析、物相結構研究及材料性能表征。其核心原理是利用X射線照射樣品時，晶體中規則排列的原子使X射線發生衍射，形成特定角度的衍射峰，通過分析這些峰的位置、強度及分布，可獲取晶體的晶格參數、晶胞對稱性、原子排列方式等關鍵信息。粉末衍射儀由X射線發生器、測角儀、探測器及控制系統組成。X射線發生器產生高穩定性的X射線束，功率可達3kW，確保信號強度；測角儀采用θ/θ掃描或立式結構，角度精度高達0.0001°...

2025年3月，鎵仁半導體發布全球首顆第四代半導體氧化鎵8英寸單晶，并加工出8英寸襯底，刷新了氧化鎵單晶尺寸的全球紀錄。中國氧化鎵率先進入8英寸時代，率先突破8英寸技術壁壘，不僅標志著中國在超寬禁帶半導體領域的技術進步，更為氧化鎵產業在全球半導體競爭中搶占了先機。馬爾文帕納科專為半導體行業打造的高分辨X射線衍射儀——X'Pert3MRD(XL)，以其出色的分析能力和針對性的解決方案，備受全球化合物半導體制造商的認可，為客戶的研發創新和產品質量控制提供強有力的支持。多方檢測結果...

激光噴霧粒度儀是一種基于激光散射原理的高精度測量設備，專門用于分析噴霧、氣霧劑、粉霧劑等微小顆粒的尺寸分布及動態特性。其核心原理是當激光束照射到噴霧顆粒時，顆粒會對入射光產生散射作用，散射光的強度及角度分布與顆粒粒徑直接相關——大顆粒散射光角度小、信號強，小顆粒則相反。通過測量散射光的角度分布與強度，并結合Mie理論或Fraunhofer衍射模型（適用于5μm顆粒），儀器可反算出顆粒的粒徑分布。該儀器具備顯著的技術優勢：測量范圍廣，可覆蓋0.1μm至30000μm的粒徑，滿足...

納米粒度電位儀是一種集粒度分析與Zeta電位測量功能于一體的精密儀器，廣泛應用于納米材料研發、制藥工業、生物大分子分析及環境監測等領域。其核心技術基于動態光散射（DLS）、電泳光散射（ELS）和靜態光散射（SLS）三種光散射原理，可實現納米顆粒粒徑分布、表面電荷特性及分子量的同步表征。動態光散射技術通過檢測顆粒布朗運動引起的散射光強度波動，結合斯托克斯-愛因斯坦方程計算流體力學半徑，粒徑檢測范圍覆蓋0.3納米至10微米，分辨率達0.3納米。電泳光散射技術利用外加電場下顆粒的遷...